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  • 英國光柵刻蝕
    英國光柵刻蝕

    簡要描述:英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結構。

    更新時間:2024-10-10
  • 日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介
    日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介

    日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族,它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設計特點。

    更新時間:2024-10-10
  • 進口深硅刻蝕
    進口深硅刻蝕

    簡要描述:進口深硅刻蝕:三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結構。

    更新時間:2024-10-10
  • RIE等離子刻蝕機2
    RIE等離子刻蝕機2

    簡要描述:RIE等離子刻蝕機2我們的等離子蝕刻設備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

    更新時間:2024-10-10
  • RIE等離子刻蝕機
    RIE等離子刻蝕機

    簡要描述:RIE等離子刻蝕機該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

    更新時間:2024-10-10
  • ICP-RIE等離子刻蝕機
    ICP-RIE等離子刻蝕機

    簡要描述:ICP-RIE等離子刻蝕機三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結構。

    更新時間:2024-10-10
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